武漢光催化反應器CY-GHX-B光化學反應儀

武漢光催化反應器CY-GHX-B光化學反應儀技術參數：

型號：CY-GHX-B大容量光化學反應儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續調節大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

4.氙燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

5.金鹵燈功率調節范圍：0~500W可連續調節。

（二）大容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

大容量光化學反應儀產品配置：

武漢光催化反應器CY-GHX-B光化學反應儀 光化學過程是地球上普遍、量重要的過程之一，綠色植物的光合作用，動物的視覺。涂料與高分子材料的光致變性，以及照相、光刻、有機化學反應的光催化等，無不與光化學過程有關。

  近年來得到廣泛重視的同位素與相似元素的光致分離、光控功能體系的合成與應用等，更體現了光化學是一個極活躍的領域。光化學反應與一般熱化學反應相比有許多不同之處，主要表現在：加熱使分子活化時，體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布；而分子受到光激活時，原則上可以做到選擇性激發。體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學反應儀的途徑與產物往往和基態熱化學反應不同。

  光化學研究反應機理的常用實驗方法，除示蹤原子標記法外，在光化學中早采用的猝滅法仍是非常有效的一種方法。這種方法是通過被激發分子所發熒光，被其他分子猝滅的動力學測定來研究光化學反應機理的。它可以用來測定分子處于電子激發態時的酸性、分子雙聚化的反應速率和能量的長程傳遞速率。

  由于吸收給定波長的光子往往是分子中某個基團的性質，所以光化學提供了使分子中某特定位置發生反應的對于那些熱化學反應缺乏選擇性或反應物可能被破壞的體系更為可貴。光化學反應的另一特點是用光子為試劑。

光化學的初級過程是分子吸收光子使電子激發，分子由基態提升到激發態。分子中的電子狀態、振動與轉動狀態都是量子化的，即相鄰狀態間的能量變化是不連續的。因此分子激發時的初始狀態與終止狀態不同時，所要求的光子能量也是不同的，而且要求二者的能量值盡可能匹配。

光物理過程可分為輻射弛豫過程和非輻射弛豫過程。輻射弛豫過程是指將全部或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉，分子回到基態的過程，如發射熒光或磷光；非輻射弛豫過程是指多余的能量全部以熱的形式耗散掉，分子回到基態的過程。

  決定一個光化學反應儀的真正途徑往往需要建立若干個對應于不同機理的假想模型。找出各模型體系與濃度、光強及其他有關參量間的動力學方程，然后考察實驗結果的相符合程度，以決定哪一個是可能的反應途徑。一旦被反應物吸收后，不會在體系中留下其他新的雜質，因而可以看成是“純”的試劑

一、必須重視儀器設備的管理和使用

　　儀器設備的高負荷使用，往往容易發生意外故障，特別是光學儀器若因維護和使用不當而起霧，就不能發揮儀器的正常作用，而帶來工作上的障礙。所以高效的維護管理儀器設備已成為當今企事業單位有效降低成本，提高勞動生產率的有效手段。目前國內企業設備維護管理一般還停留在被動的搶修作業模式，即當儀器設備發生故障，無法繼續使用時，維修人員才在短時間內將故障排除，而當沒有發生故障時，維修人員只是空閑，所以這樣的管理模式是談不上效率的，因此，儀器設備的管理也應做好計劃，同樣設備維護管理也需要把非計劃性的工作轉化為計劃性的工作。如果我們定期的檢查保養來減低故障的發生，特別是做好儀器的"三防"工作，避免搶修工作，保證儀器隨時能投入正常的作用，這就是一種主動的方式。

　　二、注意測繪儀器的防霧

　　測繪儀器在使用和貯放中，除了有生霉現象外，往往還有光學零件的起霧，影響儀器的正常使用，故可針對光學信器起霧的主要因素，采取防止措施。

　　A、設計使用中的防霧措施

　　A1、設計儀器時注意防霧，儀器結構應加強密封性能，保證儀器在高溫或低溫情況下不降低密封性能，以防止因漏氣而引起的水性霧，設計人員應當充分注意選擇化學穩定性能好的光學玻璃和材料，為防霧打下良好的基礎。

　　A2、在制造和維修過程中注意整潔生產，裝配和維修的工房須清潔，并嚴格遵守操作規程，精心擦拭光學零件，嚴禁用手直接接觸和拿取光學零件，夾持光學零件的工具須進行脫脂處理，擦光學零件所用的輔件，如棉光、布塊、乙醇、yi醚、碘以及與光學零件接觸的有機墊片均須進行嚴格脫脂，控制含脂量，裝光學零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子，須經常清洗，保持清潔，這些都是減少油性霧的重要途徑。

　　A3、減少儀器內部的水蒸氣，防止水蒸氣在玻璃表面上凝結，盡可能在干燥的條件下進行裝配或對裝配好的儀器進行干燥處理，如充干燥氮氣或空氣以及放置干燥劑。儀器在使用和庫存中，盡量控制使用環境和庫房的相對濕度在6%左右，對于外業儀器在使用中不好控制濕度，用后應放在通風、向陽、干燥的地方，在儀器箱內放入干燥劑，并注意密封和及時更換烘干硅膠干燥劑，在潮濕環境下，使用的內業儀器，如糾正儀、復照儀等，對于可取下來的鏡頭和精密的光學部件，用后及時取下來故人干燥缸內加以保護，并經常保持儀器清潔，減少結霧核心。

　　A4、合理選擇和使用油脂，光學儀器上用的各種防塵脂、潤油油脂必須是揮發度極低和化學穩定性好的材料，在光學儀器的金屬零件上涂油脂時，首先要把零件清洗干凈，讓汽油揮發完后再涂油脂，并且要涂均勻而不能過多，距光學件10-15mm的范圍內，禁止涂潤滑油脂和防塵脂，防止油脂擴散引起油性霧。

　　A5、提高光學玻璃表面的化學穩定性，利用化學鍍膜或真空鍍膜方法，在玻璃表面鍍一層憎水膜，以提高玻璃的化學穩定性，增強玻璃的抗腐蝕能力，減少起霧，為了減輕水性霧對觀察的影響，也可采用親水材料，鍍上一層透明的具有一定的物理性能偽親水膜，使水霧能全部散開，均勻的分散在膜層中，不影響觀察，當大氣干燥時，膜層中的水分自然地揮發到大氣中。

　　A6、除霉，除霧

　　光學儀器一旦生霉起霧，就造成了不良的影響，而且給修理工作帶來很多麻煩，因此，要以防為主，從儀器設計、制造開始就注意搞好防霉防霧，儀器庫存和使用中加強維護保養，是做好防霉防霧工作重要保證。而如果儀器已經生霉起霧，就應及時處理，以免造成更大損失。如果霜霧只在初期階段，即在儀器生霉起霧后，很短的時間內，只在玻璃表面層附蓋著而沒有侵蝕玻璃和破壞膜層的時候，可以用混合液擦掉。儀器生霧起霧后應及時處理，否則時間長了，就會腐蝕光學零件的表面和鍍膜，甚至于玻璃腐蝕，應及時用一般的混合液或用乙基含氫二氯硅烷溶液擦洗，這種溶液即防霧，又有一定的除霧除霉作用。多倍儀的綠色濾光片大部分是磷酸鹽玻璃，很易起霧，而且很難擦凈，可以用稀的氨水擯洗，而后用水洗凈，再及時用混合液把濾光片表面擦干，但這種玻璃很不穩定，如果不用時，擦凈放在干燥皿內，或及時作霧處理，否則還會生霉起霧。對硅酸鹽玻璃盡量避免用堿性的物質去擦，因為堿對硅酸鹽類有腐蝕作用。如果當光學零件嚴重生霉起霧，并已腐蝕了玻璃，只有重新更換玻璃或重新把光學零件拋光。總之光學儀器要以防為主，發現霉霧要及時除掉，除霉霧后，要及時采取防霧防霉措施，才能保護儀器使之發揮更大的作用。